作為同類中超前的3D打印系統(tǒng)
Quantum X shape 可打印任何形狀,最小尺寸可達100nm同時表面粗造度(Ra)小于5nm,打印面積可達25 cm
具備自動滴膠模組功能的優(yōu)良打印系統(tǒng),過夜效率可達200個特征結(jié)構(gòu)。
通用高性能雙光子聚合材料,適用高分子及玻璃打印。
Reshaping precision.
作為已被工業(yè)界認可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平臺的二代加工系統(tǒng),Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)在3D微納加工領(lǐng)域擁有驚人的高精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。
Reshaping output.
Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)不僅是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。
Reshaping usability.
通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來大大提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。
主要特征:
* 納米尺度打?。涸谌我饪臻g方向上的特征尺度控制,可達100nm
* 超快體素控制和100nm處理網(wǎng)格的高速3D微納加工
* 優(yōu)良的振鏡軌道控制保證的快速掃描速度下的軌跡準確度
* 自動化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位
* 可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇
* 工業(yè)化批量生產(chǎn): 200個標準介觀尺度結(jié)構(gòu)通宵產(chǎn)量
* 保證實用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能
* 快速原型制作,高精度,高設(shè)計自由度,簡易明了的工作流程
* 工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)
* 通用及專用的打印材料
* 兼容自主及第三方打印材料